蝕刻是金屬(shǔ)勳章定製過程中(zhōng)常見的一種工藝,對於定製工藝以及加工過程(chéng)有著極為(wéi)嚴苛的要求和手段(duàn),那麽上(shàng)海金屬獎牌製作廠家在(zài)進行蝕(shí)刻加工過程中需要注意什麽細節?我(wǒ)們從以下五點著手進行分析。
1、蝕刻率:緩慢(màn)的(de)蝕刻率會造成金(jīn)屬獎牌嚴重的側麵侵蝕,蝕刻質量的提高與蝕刻速率的加快有很大(dà)的關係,蝕刻速度(dù)越快,在蝕刻液中停留的時間越短(duǎn),側蝕刻量越小,蝕刻圖形清晰整潔;
2、蝕刻液密度:堿性蝕刻液的密(mì)度過低時會加重側蝕(shí)程度,所以(yǐ)選擇高銅濃度的蝕(shí)刻(kè)液是有利於(yú)減少側蝕;
3、蝕刻方法:浸泡和鼓(gǔ)泡式(shì)蝕刻會造成側蝕刻較大,潑濺和噴淋式蝕側蝕刻(kè)較小,其中的噴(pēn)淋式時刻的製作效果最好;
4、蝕刻液(yè)的種類:不(bú)同的蝕刻(kè)液具有不(bú)同(tóng)的(de)化學成分,蝕刻速率不同,蝕刻係數也不同,例如,酰氯銅蝕刻溶液通常具有(yǒu)3的蝕刻係數,堿性(xìng)氯化銅蝕刻溶液具有4的蝕刻係數,最近的研究表明,基(jī)於(yú)硝酸(suān)的蝕刻係統幾乎(hū)不能實現側(cè)麵(miàn)蝕刻,並且蝕刻線(xiàn)的側壁幾乎(hū)是垂直的,該蝕刻係統上海金屬獎牌(pái)製作廠家尚未開發;
5、銅箔厚度:為了實現最小側蝕刻的細線蝕刻,最好(hǎo)使用薄銅箔,且線寬越(yuè)薄(báo),銅箔的厚度越薄,因為銅(tóng)箔越薄,蝕刻(kè)溶液中的(de)時間越短,橫向腐(fǔ)蝕越小。
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